大家好，今天跟大家分享的是關於大棚栽培西瓜過程中整地、授粉選瓜以及肥水管理的相關措施，好啦，廢話不多説，點進來看看就知道。
一、整地
大棚西瓜一般種植密度較高，植物生長和結果時間較長，因此需要精細整地。如果是新大棚或使用冬季休閒棚，冬季應深翻25釐米或更深，使得土壤鬆散。如果前作是秋冬茬蔬菜，應在種植前15~20天清除，並進行較大的通風和通氣，以減少土壤水分和鬆動土壤。然後將一半的底部肥料充分施用，再將土壤平整並集中施肥。在準備土地時，應從棚屋中採摘前作物的根和枝。最好使用多菌靈或甲基苯硫酸甲酯600倍溶液噴灑土壤或與土壤製劑結合，以防止和減少疾病的發生。種植前7到10天，將水倒在溝壑底部，然後作畦。
在大棚中作畦方法因種類和種植方法而異。如果使用小西瓜品種，有兩種方法可以培育它們。一種是使用大、小行種植時，整成小高畦。
具體做法：按大行間距1.5~1.7米，小行距50~70釐米，沿南向小排挖掘50~60釐米寬，20~30釐米深的瓜溝，施入基肥後，做寬小哇70~80釐米，高20釐米，兩側適宜高8~10釐米，形成擋水邊。將幼苗種植在高粱上，靠近內側，一畦雙排，50釐米小排間距，可實現雙膜覆蓋；等行間距種植時，做一個扁平或小的高壟，按1.2米的間距開挖每個寬度和深度為30釐米的瓜溝，施基肥，混合肥料和土壤，將其放在地面以上15~20釐米，寬30釐米的平坦高或高脊上。使用中等和早熟品種，實施地爬裁培，多采用平畦。具體做法是沿着大棚的縱向打開溝渠2米。瓜溝的寬度和深度為40釐米。在溝渠中集中施肥後，將肥料和土壤混合，平整並耕種，並用薄膜覆蓋。
二、授粉選瓜
（一）授粉。大棚裏的西瓜一般在3月中旬開花，棚內沒有授粉活動。因此，需要人工授粉以確保結果。根據大棚西瓜的温度特徵和西瓜的開花習性，每天從8:00到10:00進行人工授粉。當陰天温度低時，雄花散粉晚，可以適當延遲。為了防止陰雨天，雄花不易散粉或鬆散粉末為時已晚，第二天將開放的雄花將在下午的第一天進行授粉，並放置在相對乾燥的容器內，室內温度為28°C，以便第二天能及時開花和散粉。為了按時授粉。授粉方法與日光大棚相同。每次給予雌花授粉時，應立即標記，指示授粉日期，以便在收穫時確定西瓜的成熟日期。由於環境因素對大棚的影響，特別是温度波動較大，西瓜的坐果率普遍較低。為了提高坐果率並防止空的空間，可以在剩餘的藤蔓上授粉第二和第三雌花。通過這種方式，有更多的雌花可以坐果，並且有足夠的空間可以進行留瓜。
（二）選瓜。西瓜進行人工授粉後，一株植物可以坐多個果上。為了提高果實的質量，當幼瓜長到3至4釐米的直徑時，必須仔細選擇甜瓜和甜瓜。對於雙藤和單株植物，首先要看第15至第17節的主要藤蔓，果柄是否厚實，形狀是方形，清新，輕盈，表面覆蓋茸毛，沒有疾病，沒有受傷，符合這個品種的幼瓜。如果是這樣，首先選擇要保留的主要藤蔓。如果主蔓沒有可以選的，就選擇側藤。如果第二朵雌花不適合，則在第三朵雌花的幼果中選擇。簡而言之，從幾個幼嫩的瓜中挑選最好的果，剩下的就進行摘除。對於三蔓和單株保留兩個果實，根據上述選擇瓜的原則，選擇兩個幼果留下來，其餘的去除。對於保留的嫩瓜，它們非常柔軟，容易被昆蟲咬傷並受到機械損傷，所以要注意去保護好。
三、肥水管理
（一）澆水
大棚西瓜的早期階段，由於温度低，應儘量少澆水。在種植前倒入底部水，緩慢播種期間土壤玻璃效果更好，幼苗生長的速度較慢，可以不用水。如果天氣晴朗，棚屋温度高，土壤太乾，幼苗葉片暗時候，陽光燦爛的日子應選擇早上9點到10點，在膜下進行暗澆水，以確保地面温度不會降低太多。讓幼苗儘快減速。之後，隨着温度的升高，可以逐漸增加澆水次數和澆水量，以促進瓜類的健康生長。當主蔓長到30~40釐米時，它可以與插入支架結合澆一次水。這種澆水一方面可以促進西瓜植物的生長髮育，也為坐果的位置奠定了良好的基礎。另一方面，插入竹筏以支撐支架也是有益的，澆水前也可以進行追肥。
在開花和結果期間，通常不進行澆水。一方面，它可以防止由於水分過多引起的“化瓜”；另一方面，由於水的影響，它不會引起花粉的後期發育不良，影響施肥和結果。坐瓜後，當小瓜長到雞蛋的大小時，棚內的温度已經很高，西瓜開始進入吸水高峯。應增加澆水次數和澆水量以保持土壤濕潤。通常，每隔7~8天進行澆水。在收穫前5~7天為了促進西瓜的成熟而不降低水果的含糖量，應停止澆水。在南部多雨地區或地下水位較高或土壤過酸的情況下，應適當減少澆水次數和澆水量。
（二）追肥
西瓜在大棚中的追肥與日光大棚的栽培相似。在施用基肥的基礎上，追肥一般進行2~3次，即撒上小拱棚後，在瓜的側面切溝，這是開花結果奠定好基礎。幼瓜穩定後，當它達到蛋的大小時，西瓜植物進入吸收的頂峯。在追肥的同時，也可以噴灑葉面肥。在此之後，根據種植，進行及時澆水，追肥和防病保護。如果管理得當，大棚西瓜可以達到次結果，甚至4次結果，產量和效益都會大大提高。
以上就今天的全部內容啦，我們下一篇文章見。