目前芯片領域，已經成為半導體行業當中最能夠代表一個企業或是一個國家科技水平的標準。而作為生產芯片必不可少的工具光刻機，也受到了很多人的關注。不過眾所周知，目前能夠具備7納米工藝製程的光刻機，也僅僅只有荷蘭一家公司擁有而已。伴隨着華為遭到美國禁令的升級，越來越多的國內友商開始關注於國內半導體行業的發展。遺憾的是到目前為止，國內的芯片生產技術仍然停留在15nm。
這兩年國內的半導體行業幾乎沒有太過明顯的跳躍式發展，最大的原因就在於國內缺乏光刻機。其實在2018年的時候，我國就已經向荷蘭訂購了極為先進的EUV光刻機，但是到現在為止都沒有完成交易。最主要的原因就是因為美國一直從中進行干涉，一方面限制荷蘭該企業向亞洲地區輸送光刻機，另一方面又利用自己在國際上的地位，竭力的遏制國內半導體行業的發展。
可能很多朋友都感到好奇，對國內目前的科技水平，既然沒有辦法從外尋求，為何不嘗試自己生產？光刻機作為生產芯片的一個重要工具，研發難度係數是非常的高。並非是我國不願意進行自己生產，而是因為以目前國內的技術，根本就達不到這樣的程度。在此之前，日本和美國也曾經先後進行嘗試自行研發光刻機，遺憾的是最終都以失敗告終。
光刻機的研發難度主要在於兩點，首先它的零件幾乎是來自世界各地最傑出工藝進行打造的。其中一些重要的零件來自於日本，荷蘭，德國以及美國，任何一個零件都需要做到精益求精。而且這些零件售價極為昂貴，一般很難買得到。最關鍵的還是第2點，其實光刻機説白了，就是將各種零件進行組裝而成，但是如何組裝卻需要很高的技術難度。
荷蘭方面曾經表示，即便是把光刻機的設計圖公佈於眾，也沒有任何一個企業能夠使用相同零件的情況下組裝成功。國內之所以沒有辦法自主研發功光刻機，最大的原因就在於這裏。僅僅只是擁有相應的零件和圖紙，還遠遠不夠，最大的難度還在於這些零件的組裝技術。以當下的情況來看，我國目前對於光刻機的需求，僅僅只能夠通過進口獲得。