“兩高”釋出智慧財產權刑事案件司法解釋

【“兩高”釋出智慧財產權刑事案件司法解釋】記者從最高人民法院獲悉，《最高人民法院、最高人民檢察院關於辦理侵犯智慧財產權刑事案件具體應用法律若干問題的解釋（三）》13日公佈，自2020年9月14日起施行。 　　據瞭解，隨著社會經濟發展，智慧財產權犯罪新型別案件不斷湧現，智慧財產權刑事案件特別是侵犯商業秘密案件爭議問題較多，亟需出臺相關司法解釋予以明確和規範。 　　司法解釋共十二條，主要規定了三方面的內容：一是規定了侵犯商業秘密罪的定罪量刑標準，根據不同行為的社會危害程度，規定不同的損失計算方式，以統一法律適用標準；二是進一步明確假冒註冊商標罪“相同商標”、侵犯著作權罪“未經著作權人許可”、侵犯商業秘密罪“不正當手段”等的具體認定，以統一司法實踐認識；三是明確侵犯智慧財產權犯罪刑罰適用及寬嚴相濟刑事政策把握等問題，規定從重處罰、不適用緩刑以及從輕處罰的情形，進一步規範量刑標準。 　　對於侵犯商業秘密罪，司法解釋根據司法實踐需要降低了入罪標準，將因侵犯商業秘密導致權利人破產、倒閉等情形納入入罪門檻，將入罪數額調整至“三十萬元以上”。 　　“兩高”相關部門負責人表示，司法解釋的頒佈實施，對於完善智慧財產權保護法律體系，統一法律適用標準，規範侵犯智慧財產權犯罪案件辦理，營造良好法治環境和營商環境具有重要意義。（記者羅沙）

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來源:新華視點